本文源自:金融界
金融界2025年7月7日消息，国家知识产权局信息显示，镭亚股份有限公司申请一项名为“大幅面压印光刻方法及压印光刻模具”的专利，公开号CN120266055A，申请日期为2022年12月。
专利摘要显示，一种对具有亚毫米级、微米级或纳米级特征的器件进行压印的方法，采用了第一压印光刻模具，该第一压印光刻模具包括多个掩模版，该多个掩模版包括各自的压印结构。该方法包括识别多个掩模版中的有缺陷掩模版，并用已知良品掩模版替换该有缺陷掩模版以形成复合模具。该方法可以包括在复合模具的图案化表面上提供脱模剂，然后使用该复合模具形成复合转移模具。然后可以使用该复合转移模具对目标物进行压印，以得到多个无缺陷器件，其中每个器件对应于掩模版中的一个特定掩模版。
